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   立式化学气相沉积炉(沉积炭)



   立式化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。


  技术特征


本化学气相沉积炉根据炉膛尺寸与结构设置温区,温度均匀性好;

本化学气相沉积炉采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

本化学气相沉积炉采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效的处理。




立式化学气相沉积炉(沉积炭)产品规格


参数\型号

Spec.\Model

VCVD-0305-C

VCVD-0608-C

VCVD-0812-C